[发明专利]一种制备纳米材料的喷射共沉淀装置及方法无效
申请号: | 00112586.9 | 申请日: | 2000-09-27 |
公开(公告)号: | CN1125672C | 公开(公告)日: | 2003-10-29 |
发明(设计)人: | 焦正;边历峰;刘锦淮 | 申请(专利权)人: | 中国科学院合肥智能机械研究所 |
主分类号: | B01J19/26 | 分类号: | B01J19/26;B01J14/00 |
代理公司: | 安徽省合肥新安专利代理有限责任公司 | 代理人: | 胡济元 |
地址: | 230031 *** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明涉及一种制备纳米材料的喷射共沉淀装置及方法。采用一种或多种金属的氯化物、硫酸盐、硝酸盐或其他可溶性盐类,和氨水、NaOH或其他碱,在装置中混合,喷射入反应容器,用该方法制备出的ZnFe2O4、ZnGa2O4、SnO2等金属氧化物粒子尺寸分布均匀、颗粒细小,产生10纳米左右的纳米粉末。 | ||
搜索关键词: | 一种 制备 纳米 材料 喷射 共沉淀 装置 方法 | ||
【主权项】:
1.一种喷射化学共沉淀装置,包括反应液三角瓶(1)、直管(2)、气瓶(3)、流量计(4)、三通管(5)、喷射口(6)、反应容器(7),其特征在于:两个反应液三角瓶(1)通过直管(2)与气瓶(3)相连接,两个反应液三角瓶反应液(1)又通过直管(2)与两个流量计(4)相连接,两个流量计的下面连接着三通管(5)和喷射口(6),其中三通管(5)的直径为0.4cm,喷射口(6)插入在反应容器(7)中。
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