[发明专利]一种制作微透镜列阵的方法无效
| 申请号： | 00116117.2 | 申请日： | 2000-09-25 |
| 公开（公告）号： | CN1125352C | 公开（公告）日： | 2003-10-22 |
| 发明（设计）人： | 陈波;曾红军;杜春雷;郭履容;潘丽;邓启凌;周礼书;邱传凯 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | G02B3/10 | 分类号： | G02B3/10;G03F7/00 |
| 代理公司： | 成都信博专利代理有限责任公司 | 代理人： | 张一红,王庆理 |
| 地址： | 610209 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种制作微透镜列阵的方法。该方法包含设计、制作二元掩模，将掩模经光学系统投影在光刻材料上，在曝光过程中移动掩模，刻蚀、复制等步骤。该方法克服了二元光学方法、激光直写技术、光刻热熔法等方法存在的缺陷和上述方法在制作大面积、大深度的连续浮雕微透镜列阵时的工艺困难。与上述方法比较，本发明制作工序少、生产成本低、生产的连续浮雕微透镜列阵成像质量好。故该方法可推广应用于高质量的微透镜列阵批量生产。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 制作 透镜 列阵 方法 | ||
【主权项】：
1、一种制作微透镜列阵的方法，其特征在于包括下列步骤：(1)按照制作的微透镜列阵要求设计、制作二元掩模；(2)将二元掩模经光学系统投影在光刻材料上；(3)曝光，在曝光过程中移动二元掩模；(4)对光刻材料进行刻蚀；(5)复制。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院光电技术研究所，未经中国科学院光电技术研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/00116117.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：无威尔逊网络的标准心电导联测量方法
- 下一篇：一种光催化剂及其制备方法
