[发明专利]取代的乙烯基四氢萘和乙烯基苯并四氢吡喃作为防光剂的用途无效
申请号: | 00118316.8 | 申请日: | 2000-06-12 |
公开(公告)号: | CN1277835A | 公开(公告)日: | 2000-12-27 |
发明(设计)人: | F·普雷希特尔;T·哈贝克;H·维斯滕菲尔德;T·温施 | 申请(专利权)人: | BASF公司 |
主分类号: | A61K7/06 | 分类号: | A61K7/06;A61K7/42;A61K47/22;A61K47/16;C07D311/04;C07C255/06 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 刘元金,温宏艳 |
地址: | 联邦德国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及式Ⅰ化合物在化妆品和药物制剂中作为光稳定的UV滤光剂的用途,用于保护人体皮肤和头发免遭太阳射线的伤害,所述化合物可以单独使用或与能在UV区中吸收光的、且本身已知是用于化妆品和药物制剂的化合物一起使用,式Ⅰ化合物的定义如说明书中所述。 | ||
搜索关键词: | 取代 乙烯基 四氢萘 四氢吡喃 作为 防光剂 用途 | ||
【主权项】:
1.式I化合物在化妆品和药物制剂中作为光稳定的UV滤光剂的用途,用于保护人体皮肤和头发免遭太阳射线的伤害,所述化合物可以单独使用或与能在UV区中吸收光的、且本身已知是用于化妆品和药物制剂的化合物一起使用,式I化合物的定义如下:式中:X是氧的二价基、羰基、任选地有脂族取代的亚氨基或=CR9R10所示基团,Y是羰基或=CR9R10所示基团,R1和R2是相同或不同的吸电子基团,选自下列一组:氰基、烷基-或芳基羰基、烷氧-或芳氧羰基、任选取代的氨基羰基、烷基-或芳基亚磺酰基、烷基-或芳基磺酰基和任选取代的氨基磺酰基,R3是氢原子、氰基、羟基、羰基或氨基羰基,或任选地通过一个氧桥、氨基羰基桥或氧羰基桥键合的C5-C20芳基基团或C1-C20烷基基团,R4是氢原子、羟基、氨基、或任选地通过一个氧桥键合的C5-C20芳基基团或C1-C20烷基基团,和R5~R10彼此独立地是氢或C1-C20烷基基团,且此外R7和R8可与链碳原子一起形成一个羰基。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于BASF公司,未经BASF公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/00118316.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:改进的比赛用球拍
- 下一篇:声表面波装置及其制造方法