[发明专利]梯度磁场施加方法和设备以及磁共振成像设备无效
| 申请号： | 00118762.7 | 申请日： | 2000-06-26 |
| 公开（公告）号： | CN1286960A | 公开（公告）日： | 2001-03-14 |
| 发明（设计）人： | 三好光晴;山崎亚纪 | 申请（专利权）人： | 通用电器横河医疗系统株式会社 |
| 主分类号： | A61B5/055 | 分类号： | A61B5/055;G01R33/38;G01R33/48 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 陈霁,叶恺东 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 为了提供一种用于防止由在观察视场(FOV)外部的磁场引起的人工假像的梯度磁场施加方法和设备,以及使用这种梯度磁场施加设备的磁共振成像设备,在存在梯度磁场的情况下并且在要成像的研究目标内实现原子核自旋的多次射频激发,并且根据由自旋产生的磁共振信号产生一个图像,在第一次射频激发(G90)中至少产生梯度磁场的极性,在下一次射频激发(G180)中梯度磁场的极性和第一次彼此相反。 | ||
| 搜索关键词： | 梯度 磁场 施加 方法 设备 以及 磁共振 成像 | ||
【主权项】：
1、一种梯度磁场施加方法，用于在实现原子核自旋的多次射频激发中施加梯度磁场，该方法包括如下步骤：至少使在第一次射频激发中的梯度磁场的极性和在下一次射频激发中梯度磁场的极性彼此相反。
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