[发明专利]制造梯度线圈的方法、梯度线圈单元、梯度线圈和磁共振成像装置无效
申请号: | 00118845.3 | 申请日: | 2000-06-21 |
公开(公告)号: | CN1278422A | 公开(公告)日: | 2001-01-03 |
发明(设计)人: | 后藤隆男;井上勇二 | 申请(专利权)人: | 通用电器横河医疗系统株式会社 |
主分类号: | A61B5/055 | 分类号: | A61B5/055;G01R33/38;G01R33/48 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 梁永,张志醒 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 为得到良好的线性而不降低磁场产生效率,假设半圆螺旋线的绕线模式;电流分布以连续函数Jx(x)表达,使得X轴电流分布轮廓不位于正负两极;连续函数Jx(x)的参数被优化来使得可获得要求的线性;并且半圆螺旋线的直线部分1Xt1L的位置被确定来使得实现由优化的连续函数Jx(x)给出的电流分布轮廓。结果得到的模式被对称地复制来产生梯度线圈单元1Xt,并且大量的梯度线圈单元1Xt被组合来形成梯度线圈。 | ||
搜索关键词: | 制造 梯度 线圈 方法 单元 磁共振 成像 装置 | ||
【主权项】:
1.一种制造梯度线圈的方法,包括步骤:(1)假设一个半圆螺旋线的绕线模式,并且以下面的电流分布等式来表达它的X轴电流分布:Jx(x)=ΣnAn·sin(π2nxR0)+ΣmBm·sin(π2mxR0)这里X轴是把半圆螺旋线分为两个相等部分的轴,R0是最大半径,An,n,Bm和m是为优化而控制的参数;(2)假设An,n,Bm和m的适当值,从而用An,n,Bm和m值代入的电流分布等式表达的X轴电流分布轮廓不位于正负两极,在多个磁场测量点计算磁场的线性误差,并且控制An,n,Bm和m使得线性误差落入允许值的范围内,以得到对An,n,Bm和m的优化值;(3)把电流分布轮廓和线Jx=0包围的区域用位置数目N去分割,在这些位置处构成半圆螺旋线的直线部分的直线段截断X轴,并且定义结果得到的值为ΔAp;(4)把电流分布轮廓和线Jx=0包围的整个区域通过ΔAp分割为子区域,定义各个子区域中间的X位置为半圆螺旋线的直线部分的各个直线段截断X轴的位置;(5)形成半圆螺旋线的弧形部分,以成为具有半径R0的半圆,从而产生一侧上的绕线模式;(6)相对于彼此相邻的直线部分对称复制一侧上的绕线模式,从而产生梯度线圈单元的绕线模式;(7)把大量梯度线圈单元组合在一起。
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