[发明专利]亚芳基化合物,偶氮甲碱化合物以及卤化银照相材料无效

专利信息
申请号: 00120839.X 申请日: 2000-08-02
公开(公告)号: CN1336374A 公开(公告)日: 2002-02-20
发明(设计)人: 木村桂三;荻山勝志;矢吹嘉治;川岸俊雄;中峰猛;水川裕樹 申请(专利权)人: 富士摄影胶片株式会社
主分类号: C07D471/04 分类号: C07D471/04;G03C1/06
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 于辉
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明披露了一种由结构式(I)表示的亚芳基化合物式中,L1和L2各自独立地为二价脂族基团,二价芳族基团或二价杂环基团;L3为三次甲基,五次甲基或七次甲基;Y为=O,=S或=N-R10;R1为氢,卤原子,氰基,硝基,脂族基团,芳族基团,杂环基团,-O-R11-,-S-R12,-CO-O-R13,-O-CO-R14,-NR15R16,-CO-NR17R18,-SO2-R19或-SO2-NR20R21;R2,R3,R6和R7各自独立地为氢,卤原子,氰基,脂族基团,芳族基团,-O-R22,-CO-R23,-CO-O-R24,-NR25R26,-NHCO-R27,-NH-CO-O-R28,-SO2-R29或-NH-SO2-R30;R4和R5各自独立地为氢,脂族基团,芳族基团,-CO-R31或-SO2-R32。另外,本发明还披露了偶氮甲碱化合物和卤化银照相材料。
搜索关键词: 芳基化 偶氮 碱化 以及 卤化 照相 材料
【主权项】:
1.一种由结构式(I)表示的亚芳基化合物:式中:L1和L2各自独立地为二价脂族基团,二价芳族基团或二价杂环基团;L3为三次甲基,五次甲基或七次甲基;Y为=O,=S或=N-R10,其中R10为氢,脂族基团,芳族基团或杂环基团;R1为氢,卤原子,氰基,硝基,脂族基团,芳族基团,杂环基团,-O-R11-,-S-R12,-CO-O-R13,-O-CO-R14,-NR15R16,-CO-NR17R18,-SO2-R19或-SO2-NR20R21,其中R11,R12,R13,R14,R15,R16,R17,R18,R19,R20和R21各自独立地为氢,脂族基团或芳族基团;R2,R3,R6和R7各自独立地为氢,卤原子,氰基,脂族基团,芳族基团,-O-R22,-CO-R21,-CO-O-R24,-NR25R26,-NHCO-R27,-NH-CO-O-R28,-SO2-R29或-NH-SO2-R30,其中,R22,R23,R24,R25,R26,R27,R28,R29和R30各自独立地为氢,脂族基团或芳族基团;R4和R5各自独立地为氢,脂族基团,芳族基团,-CO-R31或-SO2-R32,其中,R31和R32各自独立地为脂族基团或芳族基团;R2和R3,R3和R4,R4和R5,R5和R6,或R6和R7,可彼此结合形成一环。
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