[发明专利]释放显影抑制基青成色剂无效
申请号: | 00123093.X | 申请日: | 2000-10-18 |
公开(公告)号: | CN1349129A | 公开(公告)日: | 2002-05-15 |
发明(设计)人: | 欧阳贵平;修煜;陈学慧;范天奕;李善柱;代秀全 | 申请(专利权)人: | 中国乐凯胶片集团感光化工研究院 |
主分类号: | G03C7/30 | 分类号: | G03C7/30 |
代理公司: | 沈阳科苑专利代理有限责任公司 | 代理人: | 张晨 |
地址: | 110015 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 本发明公开了一种释放显影抑制基青成色剂,其化合物结构通式为R为防扩散基团;Timing为定时基;n=0、1;PUG为显影抑制基团;其特征在于所述的显影抑制基PUG为含硫醚或氧醚类基团的巯基噁二唑类和噻二唑类化合物。本发明可有效地提高卤化银彩色感光材料的颗粒度和影像质量。 | ||
搜索关键词: | 释放 显影 抑制 成色 | ||
【主权项】:
1、一种释放显影抑制基青成色剂,其化合物结构通式为:R为防扩散基团;Timing为定时基;n=0、1;PUG为显影抑制基团;其特征在于:所述的显影抑制基PUG为含硫醚或氧醚类基团的巯基噁二唑类和噻二唑类化合物,结构通式为:X为O、S;Y为O、S;R1为C1-6的烷基,芳基,通式为的取代的芳基,烷氧基-OR3或者烷巯基-SR4;其中取代基G为H、C1-4的烷基、卤素Cl、F、Br,R3、R4为C1-4的烷基;或者结构通式为:R5为取代的芳基,烷氧基-OR7或者烷巯基-SR8;其中R6为卤素Cl、F、Br,R7、R8为C1-4的烷基。
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