[发明专利]金属微尖冷阴极的制备方法无效
| 申请号： | 00123330.0 | 申请日： | 2000-11-28 |
| 公开（公告）号： | CN1153241C | 公开（公告）日： | 2004-06-09 |
| 发明（设计）人： | 王惟彪 | 申请（专利权）人： | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 主分类号： | H01J9/02 | 分类号： | H01J9/02;H01J1/30 |
| 代理公司： | 长春科宇专利代理有限责任公司 | 代理人： | 梁爱荣 |
| 地址： | 130022吉*** | 国省代码： | 吉林;22 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种对金属微失如钼、钨等微尖阵列制备方法的改进。在金属基底上经溅射、光刻、腐蚀抗蚀层形成圆形抗蚀层图形阵列，腐蚀金属基底形成带有抗蚀层帽的金属微尖原坯及取出、溅射绝缘层和栅极金属后，在原溶液中继续腐蚀至形成尖锐的金属微尖冷阴极。本发明利用腐蚀过程发生在无抗蚀层区的纵向和抗蚀层图形阵列掩蔽下金属的侧向的特点来制备金属微尖阵列。本发明工艺简单、无需昂贵的设备、制备方法成本低，可以大面积制备。本发明可广泛应用于真空电子器件领域、生物探针等技术领域。 | ||
| 搜索关键词： | 金属 微尖冷 阴极 制备 方法 | ||
【主权项】：
1、一种金属微尖冷阴极的制备方法，其特征在于：在金属基底上溅射一层抗蚀层；再经过光刻、腐蚀过程将抗蚀层形成一定尺寸的圆点形状的抗蚀层图形阵列；然后将带有圆点形状抗蚀层图形阵列的金属基底在化学溶液中进行腐蚀，金属基底经过适当时间的腐蚀形成带有抗蚀层帽的金属微尖原坯；取出带抗蚀层帽的金属微尖原坯，在带抗蚀层帽的金属微尖原坯的金属基底上溅射一层适当厚度的绝缘层；然后再在前述绝缘层上溅射一层栅极金属；将带抗蚀层帽的金属微尖原坯在原溶液中继续进行腐蚀将金属微尖原坯顶端的抗蚀层帽腐蚀掉并且直至形成尖锐的金属微尖冷阴极。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院长春光学精密机械与物理研究所，未经中国科学院长春光学精密机械与物理研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/00123330.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
