[发明专利]具有双峰孔半径分布的催化剂有效
申请号: | 00124057.9 | 申请日: | 2000-08-05 |
公开(公告)号: | CN1121268C | 公开(公告)日: | 2003-09-17 |
发明(设计)人: | D·海尼克;K·哈斯;U·斯塔贝尔 | 申请(专利权)人: | BASF公司 |
主分类号: | B01J21/06 | 分类号: | B01J21/06;B01J21/14;B01J23/10;B01J35/10;C07C5/333 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 卢新华,王其灏 |
地址: | 联邦德国路*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 具有双峰孔半径分布的催化剂,含有a)10-99.9%重量的二氧化锆,和b)0-60%重量的氧化铝、二氧化硅和/或二氧化钛,和c)0.1-10%重量的元素周期表中IA族或IIA族的至少一种元素,过渡族III的一种元素,过渡族VIII的一种元素,镧和/或锡,条件是重量百分比的总和为100。 | ||
搜索关键词: | 具有 双峰 半径 分布 催化剂 | ||
【主权项】:
1.一种具有双峰孔半径分布的催化剂,其中至少70%的孔容由小于20nm的孔或40-5000nm的孔组成,并且至少具有大于70m2/gBET表面积且含有下列组分:a)10-99.9%重量的二氧化锆,和b)0-60%重量的氧化铝、二氧化硅和/或二氧化钛,和c)0.1-10%重量的选自下列的至少一种元素:元素周期表中IA族或IIA族,过渡族III或VIII和锡,条件是重量百分比的总和为100。
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