[发明专利]具有双峰孔半径分布的催化剂有效

专利信息
申请号: 00124057.9 申请日: 2000-08-05
公开(公告)号: CN1121268C 公开(公告)日: 2003-09-17
发明(设计)人: D·海尼克;K·哈斯;U·斯塔贝尔 申请(专利权)人: BASF公司
主分类号: B01J21/06 分类号: B01J21/06;B01J21/14;B01J23/10;B01J35/10;C07C5/333
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 卢新华,王其灏
地址: 联邦德国路*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 具有双峰孔半径分布的催化剂,含有a)10-99.9%重量的二氧化锆,和b)0-60%重量的氧化铝、二氧化硅和/或二氧化钛,和c)0.1-10%重量的元素周期表中IA族或IIA族的至少一种元素,过渡族III的一种元素,过渡族VIII的一种元素,镧和/或锡,条件是重量百分比的总和为100。
搜索关键词: 具有 双峰 半径 分布 催化剂
【主权项】:
1.一种具有双峰孔半径分布的催化剂,其中至少70%的孔容由小于20nm的孔或40-5000nm的孔组成,并且至少具有大于70m2/gBET表面积且含有下列组分:a)10-99.9%重量的二氧化锆,和b)0-60%重量的氧化铝、二氧化硅和/或二氧化钛,和c)0.1-10%重量的选自下列的至少一种元素:元素周期表中IA族或IIA族,过渡族III或VIII和锡,条件是重量百分比的总和为100。
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