[发明专利]半导体装置及其制造方法无效

专利信息
申请号: 00126192.4 申请日: 2000-08-31
公开(公告)号: CN1286499A 公开(公告)日: 2001-03-07
发明(设计)人: 石丸一成 申请(专利权)人: 株式会社东芝
主分类号: H01L27/11 分类号: H01L27/11;H01L21/8244
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 王以平
地址: 日本神*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 反相器部分和传输部分的各个栅极电极,形成为仅仅在器件区域上存在,该栅极电极用局部互连进行连接。由此,可以实现微细且大容量的存储单元,而无须考虑栅极边缘或缩短现象。
搜索关键词: 半导体 装置 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种半导体装置,其特征是包括:半导体衬底内的器件区域;隔离上述器件区域的器件隔离区域;仅仅在上述器件区域上形成的多个栅极电极;使上述栅极电极彼此间进行连接的第1局部布线;以及使上述器件区域彼此间进行连接的第2局部布线。
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