[发明专利]正型光致抗蚀剂层及其使用方法有效
| 申请号： | 00126840.6 | 申请日： | 2000-09-06 |
| 公开（公告）号： | CN1297169A | 公开（公告）日： | 2001-05-30 |
| 发明（设计）人： | 周振豪;李有京;朴弘植;罗允静;金玑洙;姜圣哲;康升镇 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社;东友半导体株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16 |
| 代理公司： | 柳沈知识产权律师事务所 | 代理人： | 封新琴 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种阳性光致抗蚀剂层的制备方法。在该方法中,将所述光致抗蚀剂组合物滴加到形成于基片上的绝缘层或导电性金属层上。所述光致抗蚀剂组合物包含聚合物树脂、由于曝光而使光致抗蚀剂层的溶解度发生改变的感光剂及溶剂。将上述涂敷了光致抗蚀剂组合物的基片以1250至1350rpm的转速旋转4.2至4.8秒。然后,干燥上述涂覆了光致抗蚀剂组合物的基片并将上述干燥的基片进行曝光。接着,利用碱性显像液清除曝光部位。所述溶剂包括乙酸3－甲氧基丁酯和4－丁内酯,或者包括乙酸3－甲氧基丁酯、2－庚酮和4－丁内酯。 | ||
| 搜索关键词： | 正型光致抗蚀剂层 及其 使用方法 | ||
【主权项】：
1．一种阳性光致抗蚀剂层的制造方法，其包括如下步骤：将所述光致抗蚀剂组合物滴加在形成于基片上的绝缘层或导电性金属层上，将上述基片以1250至1350rpm的转速旋转4.2至4.8秒，从而将所述光致抗蚀剂组合物涂覆在所述绝缘层或导电性金属层上，所述光致抗蚀剂组合物包含聚合物树脂、由于曝光而使光致抗蚀剂层的溶解度发生改变的感光剂及溶剂；干燥上述涂覆了光致抗蚀剂组合物的基片；对上述干燥的基片进行曝光；及利用碱性显像液清除曝光部位。
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