[发明专利]半导体器件及其制造方法有效

专利信息
申请号: 00128864.4 申请日: 2000-09-26
公开(公告)号: CN1163968C 公开(公告)日: 2004-08-25
发明(设计)人: 柴田宽;矶部敦生 申请(专利权)人: 株式会社半导体能源研究所
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 王岳;张志醒
地址: 日本神*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 提供一种具有高显示品质的液晶显示器件,它具有高的孔径比而又确保有足够的存储电容(Cs),同时还可通过将电容线的负荷(像素的写入电流)及时地分散开以便有效地减小该负荷。扫描线形成在与栅电极不同的层上,以便将电容线安置得与信号线平行。每个像素都通过介电质与各独立的电容线相连接。因而,由邻近像素的写入电流所引起的电容线的电位变化就可避免,由此可获得满意的显示图像。
搜索关键词: 半导体器件 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种半导体器件,包括:形成于一绝缘表面上的半导体膜;形成于该半导体膜上的第一绝缘膜;形成于该第一绝缘膜上的栅电极和第一导线;形成于该栅电极和该第一导线上的第二绝缘膜;形成于该第二绝缘膜上并与该栅电极相连的第二导线;形成于该第二导线上的第三绝缘膜;以及在该第三绝缘膜上连接到半导体膜的第三导线,其中,该第一导线和该第二导线通过其间的第二绝缘膜而重叠。
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