[发明专利]用于抗反射涂层的有机聚合物和其制备方法无效
| 申请号： | 00131746.6 | 申请日： | 2000-09-07 |
| 公开（公告）号： | CN1288902A | 公开（公告）日： | 2001-03-28 |
| 发明（设计）人： | 郑载昌;孔根圭;郑旼镐;洪圣恩;李根守;白基镐 | 申请（专利权）人： | 现代电子产业株式会社 |
| 主分类号： | C08F20/00 | 分类号： | C08F20/00;G03F7/00 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 过晓东 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开了一种适合用于超微平版印刷的抗反射薄膜组合物,包括一种含如下化学通式11的化合物作为交联剂和生色团及如下化学通式12的化合物。本发明的有机抗反射薄膜有效吸收通过涂于抗反射薄膜上的光刻胶薄膜渗透的光,由此大大降低驻波影响。因此,本发明的有机抗反射薄膜可形成清晰的超细轮廓的图形,大大有助于半导体元件的高集成。其中a,b和c为摩尔数,其满足条件比例a∶b为0.1—1.0∶0.1—1.0和c为1R′和R″独立地为氢或甲基;R1、R2和R4为相同或不同的,各自表示含1—5个碳原子的取代或末取代的线性或支化烷基;和R3为氢或含1—5个碳原子的取代或未取代的线性或支化烷基。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 反射 涂层 有机 聚合物 制备 方法 | ||
【主权项】：
1．一种如下化学通式11的表示的化合物：式11其中：a和b分别为摩尔数，其满足条件：比例a∶b为0.1-1.0∶0.1-1.0；R′为氢或甲基；R1和R2为相同或不同的，各自表示含1-5个碳原子的取代或未取代的线性或支化烷基；和R3为氢或含1-5个碳原子的取代或未取代的线性或支化烷基。
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