[发明专利]半导体器件检查装置

摘要

一种半导体器件检查装置用电流计9测定把平行电子束2照射在样品5上而在样品5上产生的电流。改变电子束3的加速电压反复测定,在数据处理装置10中,加速电压的差异导致电子束对样品5的透射率不同,由此求出与样品5的深度方向的构造有关的信息。利用这种装置可进一步改善检测由电子束的照射产生的基板电流的技术,对接触孔的详细形状和半导体器件的内部状态进行无损检查。

主权项

1．一种半导体器件检查装置，具备有使电子束在被检查样品的半导体器件上边扫描边照射的电子束照射机构、测定在被检查样品上因电子束的照射所产生的电流的电流测定机构和对此电流测定机构的测量结果进行数据处理的数据处理机构，其特征在于上述电子束照射机构包括使电子束平行的准直机构和改变电子束的加速电压的机构，上述数据处理机构包括从用不同的加速电压扫描电子束时电子束对被检查样品的穿透率的不同求出与被检查样品的深度方向的构造有关的信息的机构。