[发明专利]光敏树脂组合物

摘要

光敏组合物,包含(A)碱溶性化合物;(B)至少一种通式Ⅰ或Ⅱ的化合物,其中各基团定义如说明书所述;(C)可光聚合的化合物;该组合物具有出人意料的良好性能,特别是在光刻胶工艺中尤佳。

主权项

1．可碱性显影的光敏组合物，含有：(A)至少一种碱溶性粘结树脂、预聚物或单体组分；(B)至少一种通式1或Ⅱ的化合物其中：R1是C4～C9环烷酰基；C3～C12链烯酰基；C1～C20链烷酰基，其是未取代的，或者由一个或多个卤、CN或苯基取代；或者R1是苯甲酰基，其是未取代的或者由一个或多个C1～C6烷基、卤、CN、OR3、SR4或NR5R6取代；或者R1是C2～C12烷氧基羰基或苄氧基羰基；或者是未取代的或由一个或多个C1～C6烷基或卤取代的苯氧基羰基；Ar1是C6～C20芳基或C6～C20芳酰基，两种基团是未取代的或者由卤、C1～C20烷基、苄基、C1～C20链烷酰基、C3～C8环烷基取代1～12次；或者所述C6～C20芳基或C6～C20芳酰基由苯基或苯甲酰基取代，后两者各自任选由一个或多个OR3、SR4或NR5R6取代；或者所述C6～C20芳基或C6～C20芳酰基任选由一个或多个-O-隔断和/或任选由一个或多个羟基取代的C2～C12烷氧基羰基取代；或者所述C6～C20芳基或C6～C20芳酰基由苯氧基羰基、OR3、SR4、SOR4、SO2R4或NR5R6取代，其中，取代基OR3、SR4、NR5R6任选形成5或6元环，所述环由基团R3、R4、R5和/或R6与C6～C20芳基或C6～C20芳酰基的芳环上的其它取代基形成，或由它们与C6～C20芳基或C6～C20芳酰基的芳环的碳原子之一形成；或者，Ar1是C3～C9杂芳基，但须R1是乙酰基，所述C3～C9杂芳基是未取代的或由卤、C1～C20烷基、苄基、C1～C20链烷酰基或C3～C8环烷基取代1～7次，或者所述C3～C9杂芳基由苯基或苯甲酰基取代，后二者各自任选由一个或多个OR3、SR4或NR5R6取代；或者所述C3～C9杂芳基任选由一个或多个-O-隔断的和/或任选由一个或多个羟基取代的C2～C12烷氧基羰基所取代；或者，所述C6～C20芳基或C6～C20芳酰基由苯氧基羰基、OR3、SR4、SOR4、SO2R4或NR5R6取代；x为2或3；当x为2时，M1是其中的每一个任选由下述基团取代1～12次，即卤、C1～C12烷基、C3～C8环烷基、苄基，未取代的或由一个或多个OR3、SR4或NR5R6取代的苯基，未取代的或由一个或多个OR3、SR4或NR5R6取代的苯甲酰基，C1～C12链烷酰基，任选由一个或多个-O-隔断的和/或任选由一个或多个OH、苯氧羰基、OR3、SR4、SOR4、SO2R4或NR5R6取代的C2～C12烷氧基羰基；或者，当x为3时，M1是其中每一个任选由下述基团取代1～12次，即卤，C1～C12烷基，C3～C8环烷基，未取代的或者由一个或多个OR3、SR4或NR5R6取代的苯基，苄基，苯甲酰基，C1～C12链烷酰基，任选由一个或多个-O-隔断的和/或任选由一个或多个羟基、苯氧基羰基、OR3、SR4、SOR4、SO2R4或NR5R6取代的C2～C12烷氧基羰基；M2是直接键、-O-、-S-、-SS-、-NR3-、-(CO)-、C1～C12亚链烷基、亚环己基、亚苯基、亚萘基、-(CO)O-(C2～C12亚链烷基)-O(CO)-、-(CO)O-(CH2CH2O)n-(CO)-或-(CO)-(C2～C12亚链烷基)-(CO)，或者，M2是C4～C12亚链烷基或C4～C12亚链烷二氧基，其中各自任选由1～5个-O-、-S-、和/或-NR3-所隔断；M3是直接键、-CH2-、-O-、-S-、-SS-、-NR3-或-(CO)-；M4是R3是氢或C1～C20烷基；或R3是由下述基团取代的C2～C12烷基，即-OH、-SH、-CN、C3～C6链烯氧基、-OCH2CH2CN、OCH2CH2(CO)O(C1～C4烷基)、-O(CO)-C1～C4烷基、-O(CO)-苯基、-(CO)OH、-(CO)O(C1～C4烷基)、-N(C1～C4烷基)2、-N(CH2CH2OH)2、-N[CH2CH2O-(CO)-C1～C4烷基]2或吗啉基；或者，R3是由一个或多个-O-隔断的C2～C12烷基；或者，R3是-(CH2CH2O)n+1H、-(CH2CH2O)n(CO)-C1～C8烷基、C1～C8链烷酰基、C3～C12链烯基、C3～C6链烯酰基、C3～C8环烷基；或者R3是未取代的或由一个或多个C1～C6烷基、卤、-OH或C1～C4烷氧基取代的苯甲酰基；或者，R3是苯基或萘基，各自均是未取代的或由下述基团取代，即卤、-OH、C1～C12烷基、C1～C12烷氧基、苯基-C1～C3-烷氧基、苯氧基、C1～C12烷硫基、苯硫基、-N(C1～C12烷基)2、二苯基氨基或-(CO)R7；或者R3是苯基-C1～C3-烷基或Si(C1～C6烷基)r(苯基)3-r；r为0,1,2或3；n为1-20；R4是氢，C1～C20烷基，C3～C12链烯基，C3～C8环烷基，苯基-C1～C3烷基，由下述基团取代的C2～C8烷基，即-OH、-SH、-CN、C3～C6链烯氧基、-OCH2CH2CN、-OCH2CH2(CO)O(C1～C4烷基)、-O(CO)-C1～C4烷基、-O(CO)-苯基、-(CO)OH或-(CO)O(C1～C4烷基)；或者，R4是由一个或多个-O-或-S-隔断的C2～C12烷基；或者，R4是-(CH2CH2O)n+1H、-(CH2CH2O)n(CO)-C1～C8烷基、C2～C8链烷酰基、C3～C12链烯基、C3～C6链烯酰基；或者，R4是苯基或萘基，其中每一个是未取代的或由卤、C1～C12烷基、C1～C12烷氧基或-(CO)R7取代的；R5和R6彼此无关，各自是氢、C1～C20烷基、C2～C4羟烷基、C2～C10烷氧基烷基、C3～C5链烯基、C3～C8环烷基、苯基-C1～C3烷基、C1～C4链烷酰基、C3～C12链烯酰基、苯甲酰基；或者，是苯基或萘基，其中每个是未取代的或由C1～C12烷基或C1～C12烷氧基取代的；或者，R5和R6均是任选由-O-或-NR2-隔断的和/或任选由羟基、C1～C4烷氧基、C2～C4链烷酰氧基或苯甲酰氧基取代的C2～C6亚链烷基；R7是氢、C1～C20烷基；或是由下述基团取代的C2～C8烷基、即卤、苯基、-OH、-SH、-CN、C3～C6链烯氧基、-OCH2CH2CN、-OCH2CH2(CO)O(C1～C4烷基)、-O(CO)-C1～C4烷基、-O(CO)-苯基、-(CO)OH或-(CO)O(C1～C4烷基)；或者，R7是由一个或多个-O-隔断的C2～C12烷基；或者，R7是-(CH2CH2O)n+1H、-(CH2CH2O)n(CO)-C1～C8烷基、C3～C12链烯基、C3～C8环烷基；任选由下述基团取代的苯基，即一个或多个卤、-OH、C1～C12烷基、C1～C12烷氧基、苯氧基、C1～C12烷硫基、苯硫基、-N(C1～C12烷基)2或二苯基氨基；和(C)可光聚合的化合物。