[发明专利]低聚物和可光成像的组合物无效

专利信息
申请号: 00135311.X 申请日: 2000-10-20
公开(公告)号: CN1159624C 公开(公告)日: 2004-07-28
发明(设计)人: L·小伊拉莫;M·G·麦尔;R·K·巴尔 申请(专利权)人: 罗姆和哈斯公司
主分类号: G03F7/027 分类号: G03F7/027;C08G18/67
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 陈季壮
地址: 美国宾*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明提供了具有四丙烯酸酯官能团的低聚物,该官能团给用作抗光蚀剂的可光成像的组合物提供了提高挠性。提高了的挠性在含环氧的形成焊锡掩模的可光成像的组合物中是特别有利的,因为该挠性在镍/金镀中提供了改进的特性。
搜索关键词: 低聚物 成像 组合
【主权项】:
1.具有通式(I)的低聚物:(CH2=CH(H或CH3)-CO-X-R-CH(OZ)-CH2-O-φ-)2-C(CH3)2 (I)其中R是1-40个碳的亚烷基;X不存在或选自分子量在50-2800之间的亚烷基二醇、聚酯二醇和聚醚二醇的二醇;和Z是式:-CO-NH-Y-NH-CO-O(-X-O-CO-NH-Y-NH-CO-O)n-Q-O-CO-CH(H或 CH3)=CH2;其中Y是亚烷基或芳香烃基团;n=1-4;X′是选自亚烷基二醇、聚酯二醇和聚醚二醇的二醇;和Q是2-6个碳原子的亚烷基。
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