[实用新型]多片立式旋转液相外延石墨舟无效
| 申请号： | 00203991.5 | 申请日： | 2000-02-29 |
| 公开（公告）号： | CN2413385Y | 公开（公告）日： | 2001-01-03 |
| 发明（设计）人： | 张富文;元金山;李向文 | 申请（专利权）人： | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 主分类号： | H01L21/20 | 分类号： | H01L21/20 |
| 代理公司： | 中国科学院长春专利事务所 | 代理人： | 梁爱荣 |
| 地址： | 130022 *** | 国省代码： | 吉林;22 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型属于半导体光电子设备技术领域,涉及一种对多片立式半导体液相外延石墨舟的改进。多片衬底托架在不同的液相外延阶段任意启动,匀速、变速和停止转动,溶液槽制成斜面形。本实用新型主要用于DH－GaAlAsLED液相外延材料生长,可使其限定层、发光层、窗口层生长厚度、Al组分值和掺杂浓均匀性明显改进,提高了液相外延片成品率及发光效率,降低了成本,是解决我国发光二极管材料国产化的一项关键技术。 | ||
| 搜索关键词： | 立式 旋转 外延 石墨 | ||
【主权项】：
1、一种多片立式旋转液相外延石墨舟包括：漏源尺2、废源漏源尺4、废液槽5、反应室7、导槽8，其特征在于：溶液槽1通过导槽8与漏源尺2做滑动连接并固定在反应室7的上端，溶液槽1、漏源尺2、废源漏源尺4、反应室7及导槽8全部装配在固定不动的废液槽5上，在反应室7内部的联动旋转杆3的一端通过螺纹与多片衬底托架6固定连接，在反应室7外部的联动旋转杆3的一端与电机9的轴相连接，溶液槽1的底部采用斜面形状。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
