[实用新型]具双向暨同步趋近均距径向调整磁阻器的改良结构无效

专利信息
申请号: 00204021.2 申请日: 2000-03-16
公开(公告)号: CN2413736Y 公开(公告)日: 2001-01-10
发明(设计)人: 陈秀容 申请(专利权)人: 陈秀容
主分类号: A63B21/22 分类号: A63B21/22;A63B21/00
代理公司: 上海专利商标事务所 代理人: 张民华
地址: 台湾省新竹县新*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 一种具双向暨同步趋近均距径向调整磁阻器的改良结构,包含有一本体、一盖体、磁控件及磁控件。本体的中间处为一凸环部,于凸环部的相对应两端各设有容置孔及∏型槽,供穿入磁控件的连动轴。本体中心孔的边缘处透设有一位移槽,当转动元件套入中心孔后使转动块于位移槽中移动,而使转动元件外缘的穿孔正对于连动轴的轴孔,并利用一连杆结合,藉由转动块滑动于位移槽间的位置以改变穿孔的应对位置,以控制磁控件作双向并同步趋径向移位。
搜索关键词: 双向 同步 趋近 径向 调整 磁阻 改良 结构
【主权项】:
1.一种具双向暨同步趋近均距径向调整磁阻器的改良结构,包含有一本体、一盖体、磁控件及轴动元件,其特征在于,该本体的中间处为一凸环部,并于相对应两端各设有容置孔及Ⅱ型槽,供穿入磁控件的连动轴;另外,于凸环部近于中心孔的适当位置设有位移槽,当转动元件套入中心孔并使转动块置入位移槽中时,转动元件外缘的穿孔正对于连动轴的轴孔,并利用一连杆结合,藉由转动块滑动于位移槽间的位置以改变穿孔的应对位置,以控制磁控件作双向且同步趋径向移位。
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