[实用新型]亚半微米投影光刻物镜

摘要

本实用新型公开的亚半微米投影光刻物镜,是一种大规模集成电路制造设备分步重复投影光刻机的高分辨力投影成像物镜。它由外层密封恒温外套、中间层镜筒、内层为分隔固定光学透镜元件的透镜框组件组成。它克服了目前国内现有光刻设备投影光刻物镜光刻分辨力较低,不能制作千兆位VLSI的不足。与国外具有同等技术参数指标的物镜相比,具有双远心特性,结构性能好,制作成本低。

主权项

1、一种亚半微米投影光刻物镜，包括镜筒和内部透镜框组件，其特征在于：外层为通有恒温水的恒温密封上下外套(38)和(40)，中间层为由镜筒(4)、镜筒(13)、镜筒(17)、镜筒(27)和镜筒(30)组成的镜筒，支撑整个物镜的大法兰(39)包含在其中的一节镜筒(17)中，内层为分隔固定光学透镜元件的透镜框组件(1)、(2)、(3)、(5)、(6)、(7)、(8)、(9)、(10)、(11)、(12)、(14)、(15)、(16)、(18)、(19)、(20)、(21)、(22)、(25)、(26)、(28)、(29)、(31)、(32)、(33)、(34)、(35)、(36)、平镜组件(24)和光栏组件(23)。