[实用新型]喷嘴的调整装置无效

专利信息
申请号: 00260633.X 申请日: 2000-11-28
公开(公告)号: CN2472817Y 公开(公告)日: 2002-01-23
发明(设计)人: 董福庆;陈家铭;黄振荣;王家康;彼德 申请(专利权)人: 财团法人工业技术研究院
主分类号: B05B1/00 分类号: B05B1/00;B05B1/06;B05B3/02
代理公司: 隆天国际专利商标代理有限公司 代理人: 潘培坤,陈红
地址: 中国*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 一种喷嘴的调整装置,包括由上盖与旋转夹盘形成的反应室;喷头与喷嘴机构,该喷头具有数个合适角度的斜孔槽与球座,喷嘴可调整适当的倾斜角度;用于调整喷头与反应上盖的喷头水平调整机构;及还包括喷洒臂旋转机构。当晶片置于夹盘后,化学品由压缩气体压送至喷洒系统管路,并经不同喷嘴喷洒至旋转的晶片表面,该装置可同时适用于密闭与开放式晶片反应室,喷头并具有特有角度设计与水平调整、高度调整功能并具有制程弹性化。
搜索关键词: 喷嘴 调整 装置
【主权项】:
1、一种喷嘴的调整装置,其特征是包括:一反应室,其由一反应室上盖与旋转夹盘形成;及一喷头与喷嘴机构,该喷头具有数个合适角度的斜孔槽与球座,以结合喷嘴与球接头,而每一斜孔槽各有一喷嘴压板盖住球接头,而喷嘴上端以弯管连接至供酸系统,该喷头上端具有喷头盖板,反应室上盖连接至喷头的下端;及喷头水平调整机构,其连接板与喷头盖板相接。
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