[发明专利]N,N′－二烷基链烷二胺的新制备方法有效
| 申请号： | 00800352.1 | 申请日： | 2000-03-15 |
| 公开（公告）号： | CN1296472A | 公开（公告）日： | 2001-05-23 |
| 发明（设计）人： | 高野安広;坂寺薰;森崎让治;山田国博;水田秀树;伊藤尚登 | 申请（专利权）人： | 三井化学株式会社 |
| 主分类号： | C07C209/08 | 分类号： | C07C209/08;C07C211/09 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 吴大建,王其灏 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及通过二卤烷烃与低级烷基胺反应制备N,N’－二烷基链烷二胺的方法,其特征在于在控制反应体系中式(4)所示的卤代链烷胺中间体残余量的条件下进行反应,其中,R是低级烷基,R1和R2是氢原子或低级烷基,X是氯、溴或碘原子,n是2—6的整数,本发明能抑制环状二烷基二胺和三烷基链烷三胺副产物的形成,并以高收率制得所需的N,N’－二烷基链烷二胺。 | ||
| 搜索关键词： | 烷基 链烷二胺 制备 方法 | ||
【主权项】：
1．一种制备N，N’-二烷基链烷二胺的方法，该方法通过式(1)所示的二卤烷烃与式(2)所示的低级烷基胺反应制得式(3)所示的N，N’-二烷基链烷二胺，式(1)中，R1和R2是氢原子或低级烷基，X是氯、溴或碘原子，n是2-6的整数， R-NH2 (2)式(2)中，R是低级烷基，式(3)中，R1和R2是氢原子或低级烷基，X是氯、溴或碘原子，n是2-6的整数，该方法的特征在于：在进行反应的同时，相对于1mol式(2)所示的低级烷基胺，式(4)所示的卤代链烷胺中间体的残余量控制在0.002mol或更低，式(4)中，R是低级烷基，R1和R2是氢原子或低级烷基，X是氯、溴或碘原子，n是2-6的整数。
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