[发明专利]投射系统及投射器有效
| 申请号： | 00800369.6 | 申请日： | 2000-03-21 |
| 公开（公告）号： | CN1297541A | 公开（公告）日： | 2001-05-30 |
| 发明（设计）人： | 米野邦夫 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | G03B21/00 | 分类号： | G03B21/00;G03B21/10 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 刘宗杰,叶恺东 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 投射系统包含向预定被投射部投射图像光的投射部,对由前述投射部产生的投射图像摄像的摄像部,根据前述摄像部产生的摄像结果进行预定处理的处理部,前述摄像部的摄像透镜安置在前述投射图像的光的直接反射光的反射区之外。 | ||
| 搜索关键词： | 投射 系统 | ||
【主权项】：
1．一种投射系统，包含：向预定的被投射部投射图像的光的投射部，对由前述投像部产生的投射图像进行摄像的摄像部，根据由前述摄像部产生的摄像结果进行预定处理的处理部，其特征为：前述摄像部的摄像透镜安置在前述投射图像的光的直接反射光的反射区之外。
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