[发明专利]磁盘基材的研磨组合物以及磁盘基材的制备方法无效
申请号: | 00801202.4 | 申请日: | 2000-06-28 |
公开(公告)号: | CN1152104C | 公开(公告)日: | 2004-06-02 |
发明(设计)人: | 宫田宪彦 | 申请(专利权)人: | 昭和电工株式会社 |
主分类号: | C09K3/14 | 分类号: | C09K3/14;B24B37/00;G11B5/84 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 张平元 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 用于磁盘基材抛光的组合物,其中包含水、精细二氧化钛颗粒和抛光促进剂,其特征在于90-100%的构成所述颗粒的二氧化钛具有相同的晶体结构;以及用所述的组合物制备磁盘基材的方法。该组合物可以以经济的抛光速度用于磁盘基材的抛光,以便降低表面的粗糙度,并且不出现突起、研磨伤和小凹陷等细微缺陷。 | ||
搜索关键词: | 磁盘 基材 研磨 组合 以及 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种用于磁盘基材的研磨组合物,其中至少包含水、二氧化钛颗粒和研磨促进剂,其特征在于90-100%的二氧化钛是由单一晶体结构组成的。
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