[发明专利]磁盘基材的研磨组合物以及磁盘基材的制备方法无效

专利信息
申请号: 00801202.4 申请日: 2000-06-28
公开(公告)号: CN1152104C 公开(公告)日: 2004-06-02
发明(设计)人: 宫田宪彦 申请(专利权)人: 昭和电工株式会社
主分类号: C09K3/14 分类号: C09K3/14;B24B37/00;G11B5/84
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 张平元
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 用于磁盘基材抛光的组合物,其中包含水、精细二氧化钛颗粒和抛光促进剂,其特征在于90-100%的构成所述颗粒的二氧化钛具有相同的晶体结构;以及用所述的组合物制备磁盘基材的方法。该组合物可以以经济的抛光速度用于磁盘基材的抛光,以便降低表面的粗糙度,并且不出现突起、研磨伤和小凹陷等细微缺陷。
搜索关键词: 磁盘 基材 研磨 组合 以及 制备 方法
【主权项】:
1.一种用于磁盘基材的研磨组合物,其中至少包含水、二氧化钛颗粒和研磨促进剂,其特征在于90-100%的二氧化钛是由单一晶体结构组成的。
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