[发明专利]结晶装置和结晶方法有效
申请号: | 00801616.X | 申请日: | 2000-04-14 |
公开(公告)号: | CN1148247C | 公开(公告)日: | 2004-05-05 |
发明(设计)人: | 大岛宽;野田秀夫 | 申请(专利权)人: | 关西化学机械制作株式会社 |
主分类号: | B01D9/02 | 分类号: | B01D9/02;B01F15/06;B01F7/16 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人: | 龙淳;彭益群 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供了一种结晶装置,它包括一个搅拌罐,一个用于沿着搅拌罐壁循环液体或浆液的液体循环装置和一个或多个能够在搅拌罐壁产生温差的温差产生装置,其中温差产生装置安装于此搅拌罐上。例如,温差产生装置安装在通过旋转液体喷射装置喷出的液体或浆液与搅拌罐壁接触的区域或低于此区域,相对于周围液体或浆液的温度来说,这升高或降低了喷出的液体或浆液的温度。由于具有此形状的装置有一个大的蒸发区域和大的热传递区域,缩短了晶体产生诱导期,得到了尺寸分布窄的大尺寸晶体。而且有可能得到特定的晶形,也就是说有可能控制晶体多晶型现象。 | ||
搜索关键词: | 结晶 装置 方法 | ||
【主权项】:
1.一种结晶装置,包括:一个搅拌罐,装有一个位于该搅拌罐下部的温差产生装置和一个或多个位于该搅拌罐上部的温差产生装置;和一个用于沿搅拌罐壁循环液体或浆液的液体循环装置;其中,下部温差产生装置的温度被设置成高于或低于上部温差产生装置的温度。
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