[发明专利]其电极具有大量均匀边沿的等离子聚合设备无效
| 申请号： | 00801762.X | 申请日： | 2000-08-14 |
| 公开（公告）号： | CN1161821C | 公开（公告）日： | 2004-08-11 |
| 发明（设计）人： | 郑永万;李守源;尹东植;河三喆 | 申请（专利权）人： | LG电子株式会社 |
| 主分类号： | H01L21/205 | 分类号： | H01L21/205;H01L21/302;C23C16/32 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 余朦;李辉 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明涉及等离子聚合设备，包括：聚合室，用于通过高压放电在衬底的表面进行聚合；放电电极，安装在聚合室的内部；相对电极，具有多个均匀边沿以便在电极的表面形成均匀的电场；高压加载单元，用于将高压施加到电极；气体提供单元，用于向聚合室内提供单体气体和非单体气体；和泵吸单元，用于保持聚合室内的真空。本发明可以保持电极的均匀性，因此通过保持电极每个部分上的电流密度和碳化程度可以制造出高质量的聚合膜。 | ||
| 搜索关键词： | 电极 具有 大量 均匀 边沿 等离子 聚合 设备 | ||
【主权项】：
1.一种等离子聚合设备，包括：聚合室，用于通过高压放电在衬底的表面进行聚合；放电电极，安装在聚合室的内部；相对电极，具有多个均匀边沿，以便在电极的表面形成均匀的电场；高压加载单元，用于将高电压施加到电极；气体提供单元，用于向聚合室内提供单体气体和非单体气体；和泵吸单元，用于保持聚合室内的真空状态，其中，放电电极是由高压加载单元施加电源的衬底。
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H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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