[发明专利]薄膜形成用化学吸附物质和其制造方法及其用途有效
| 申请号： | 00801863.4 | 申请日： | 2000-07-05 |
| 公开（公告）号： | CN1321183A | 公开（公告）日： | 2001-11-07 |
| 发明（设计）人： | 大竹忠;小川一文;野村幸生;武部尚子 | 申请（专利权）人： | 松下电器产业株式会社 |
| 主分类号： | C09K3/00 | 分类号： | C09K3/00;C07F7/12;G02F1/1337;B01J19/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 魏金玺,钟守期 |
| 地址： | 日本大阪*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的薄膜形成用化学吸附物质,至少具有以下列化学式表示的官能基,和通过硅氧烷键结合固定的作为端基的－SiX基团(X为卤原子)。因此,提供一种可以形成单分子层状薄膜的化学吸附物质,其具有在可见光区透明而稳定,而在紫外光区起光化学反应的感光性基的新型化学吸附物质及其制造方法。还有,本发明的液晶取向膜,是在带电极的基板面上,直接地或通过其他物质层进行化学吸附形成的吸附分子集合群所构成的,并且,吸附分子具有以上列化学式表示的特性基和分子端基上的－O－Si结合基。因此,提供一种被均匀牢固地固定在基板上,取向的热稳定性及取向规制力优良,生产性好且能制造出纳米级膜厚的液晶取向膜及用该膜的LCD。 | ||
| 搜索关键词： | 薄膜 形成 化学 吸附 物质 制造 方法 及其 用途 | ||
【主权项】：
1．一种薄膜形成用化学吸附物质，其特征在于，至少含有以下列化学式(1-1)表示的官能基；和通过硅氧烷键结合的作为端基的-SiX基(式中，X表示卤原子)。
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