[发明专利]C－21修饰的环氧噻酮类化合物

摘要

本发明涉及其中噻唑基被修饰的环氧噻酮类化合物、其制备方法和含有这些环氧噻酮的抗真菌剂或治疗剂。

主权项

1.具有通式I的化合物：其中：P-Q是C，C双键或环氧化物；G是或R选自H、烷基和取代的烷基；R1选自：和R2是G1选自H、卤素、CN、烷基和取代的烷基；G2选自H、烷基和取代的烷基；G3选自O、S和NZ1；G4选自H、烷基、取代的烷基、OZ2、NZ2Z3、Z2C＝O、Z4SO2和任意取代葡糖基；G5选自卤素、N3、NCS、SH、CN、NC、N(Z1)3+和杂芳基；G6选自H、烷基、取代的烷基、CF3、OZ5、SZ5和NZ5Z6；G7是CZ7或N；G8选自H、卤素、烷基、取代的烷基、OZ10、SZ10、NZ10Z11；G9选自O、S、-NH-NH-和-N＝N-；G10是N或CZ12；G11选自H2N、取代H2N、烷基、取代的烷基、芳基和取代的芳基；Z1、Z6、Z9和Z11独立地选自H、烷基、取代的烷基、酰基和取代的酰基；Z2选自H、烷基、取代的烷基、芳基、取代的芳基和杂环；Z3、Z5、Z8和Z10独立地选自H、烷基、取代的烷基、酰基、取代的酰基、芳基和取代的芳基；Z4选自烷基、取代的烷基、芳基、取代的芳基和杂环；Z7选自H、卤素、烷基、取代的烷基、芳基、取代的芳基、OZ8、SZ8和NZ8Z9；和Z12选自H、卤素、烷基、取代的烷基、芳基和取代的芳基；条件是当R1为时，G1，G2，G3和G4不可以同时具有下列含义：G1和G2＝H，G3＝O和G4＝H或Z2C＝O，其中Z2＝烷基。