[发明专利]在烃裂解反应器的反应管内壁形成涂层的方法无效

专利信息
申请号: 00805670.6 申请日: 2000-10-17
公开(公告)号: CN1345261A 公开(公告)日: 2002-04-17
发明(设计)人: 姜信喆;崔安燮;曹东铉;崔烍 申请(专利权)人: SK株式会社
主分类号: B05D7/22 分类号: B05D7/22
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 过晓东
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及一种在烃裂解反应器的反应管内壁上在线涂膜的方法,该方法可以阻止在反应管内壁生成和沉积焦炭。该方法由如下步骤组成将烷氧基金属和铬化合物的混合溶液与载气同时以1~5000千克/小时/盘管的流速,在600~900℃的温度和0~3千克/厘米2的压力下,气相沉积在反应管内壁上而形成缓冲层;将烷氧基金属气相沉积在缓冲层上而形成阻隔层;然后将碱金属/碱土金属化合物单独或与烷氧基金属混合后气相沉积在阻隔层上而作为除焦层。除焦层也可以进一步在扩散阻隔层上形成。
搜索关键词: 裂解 反应器 反应 内壁 形成 涂层 方法
【主权项】:
1、一种在烃裂解反应器的反应管内壁上在线涂布连续无机涂膜的方法,以阻止焦炭在所述反应管内壁上的生成和沉积,包括:将烷氧基金属气相沉积在所述反应管内壁上作为扩散阻隔层,与此同时,在600~900℃的温度、0~3千克/厘米2的压力下,以1~5000千克/小时/盘管的流率通入载气。
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