[发明专利]旋光的吡咯并氮杂环庚三烯衍生物的制备方法无效
| 申请号： | 00806066.5 | 申请日： | 2000-12-14 |
| 公开（公告）号： | CN1164589C | 公开（公告）日： | 2004-09-01 |
| 发明（设计）人： | 水野章;关内和人;永田卓司;村石照男 | 申请（专利权）人： | 第一三得利制药株式会社 |
| 主分类号： | C07D487/04 | 分类号： | C07D487/04 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 温宏艳;杨丽琴 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种方法，通过该方法可以以低成本工业规模的形式容易地获得预用作药物的吡咯并氮杂环庚三烯衍生物，该衍生物是药物所要求的旋光的物质形式。具体地讲，提供了制备通式(I)的旋光的吡咯并氮杂环庚三烯衍生物(其中Z是未被取代或被取代的苯基)的方法，该方法包含在旋光的钴复合物催化剂的存在下用金属氢化物和醇联合对前体酮进行不对称还原的步骤，以及纯化所得产物的步骤。∴ | ||
| 搜索关键词： | 吡咯 氮杂环庚三烯 衍生物 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.制备下式(I)代表的旋光的吡咯并氮杂环庚三烯衍生物的方法：![]()
其中Z代表任选被卤原子、烷氧基、羟基及其酰基衍生物、直链或支链烷基或硝基取代的苯基，该方法包含：下式(II)表示的酮化合物的不对称还原：![]()
其中Z定义如上，该还原在旋光的钴复合物催化剂的存在下使用金属氢化物和醇化合物，其中所述旋光的钴复合物催化剂的配体是下式(VI)的一种对映体：![]()
其中此式表示旋光的化合物，其中两个基彼此为反式，其中所述对映异构体衍生自下式(VII)表示的左旋质子化化合物：![]()
以及，纯化所得的化合物。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于第一三得利制药株式会社，未经第一三得利制药株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/00806066.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：黄连素及其盐类的制备方法
- 下一篇：咪唑二氮杂衍生物
