[发明专利]微波等离子体容器处理装置有效
| 申请号： | 00806902.6 | 申请日： | 2000-04-11 |
| 公开（公告）号： | CN1158405C | 公开（公告）日： | 2004-07-21 |
| 发明（设计）人： | 帕特里克·肖莱 | 申请（专利权）人： | 西德尔阿克蒂斯服务公司 |
| 主分类号： | C23C16/04 | 分类号： | C23C16/04;C23C16/50;H01J37/32 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王宪模 |
| 地址： | 法国*** | 国省代码： | 法国;FR |
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| 摘要： | 本发明提出了一种用于容器表面处理的装置，其特征在于，容器放在一个旋转圆柱体的导电材料罩(12)内，其特征还在于，所述装置包括一波导管(15)，该管沿大致垂直于罩轴(A1)的方向延伸，以矩形窗口的形式开口于罩内，该窗口在罩轴方向的尺寸最小，其特征还在于，罩(12)的内径使得微波在罩内按一种主模传播，在该主模中，由微波的传播产生的电场呈轴向旋转对称。 | ||
| 搜索关键词： | 微波 等离子体 容器 处理 装置 | ||
【主权项】：
1.一种用于容器表面处理的装置，其中，所述处理是通过由微波型电磁波激励反应流体而获得的低压等离子体进行的，所述容器放在一个导电材料罩(12)里，微波通过一耦合装置被导入所述罩内，其特征在于，所述罩(12)为围绕容器(24)主轴(A1)的旋转圆柱体，其特征还在于，耦合装置包括一波导管(15)，该管沿垂直于罩轴(A1)的方向延伸，以一个窗口的形式开口于所述罩的一个侧壁上，该窗口在罩的一切面上的投影为矩形，其在罩轴方向的尺寸最小，其特征还在于，所述罩(12)的内径使得微波在罩内按一种主模传播，在该主模中，由微波的传播产生的电场呈轴向旋转对称。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
