[发明专利]套管井周围地层电阻率的测定方法和设备有效
申请号: | 00809280.X | 申请日: | 2000-06-07 |
公开(公告)号: | CN1357112A | 公开(公告)日: | 2002-07-03 |
发明(设计)人: | 多米尼克·贝尼梅利 | 申请(专利权)人: | 施蓝姆伯格技术公司 |
主分类号: | G01V3/20 | 分类号: | G01V3/20 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 魏晓刚,李晓舒 |
地址: | 荷兰*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及一种方法和设备,用于探究围绕一配装金属套管的井眼的、一地质岩层的电阻率,一电流施加于套管,以便造成电流在一给定层位处漏入所述地层,而所述电流由一在测定层位每一侧上接触于套管的反馈电路予以分路,所述电路组配得确保在所述层位处沿着套管流动的电流与分路电流相比是很小的,确定位于测定层位每一侧上相邻各段套管上的各电压降之间的差值,并从中推演出来泄漏电流(Ifor)。 | ||
搜索关键词: | 管井 周围 地层 电阻率 测定 方法 设备 | ||
【主权项】:
1.一种方法,用于探究围绕一配装金属套管的井眼的、一地质岩层的电阻率,此方法的特征在于以下事实,即一电流施加于套管,以便造成电流在一给定层位处漏入地层,所述电流由一在测定层位每一侧上接触于套管的反馈电路予以分路,所述反馈电路组配得以致在所述层位处沿着套管流动的电流与分路电流相比是很小的,确定位于测定层位每一侧上相邻各段套管上的各电压降之间的差值,并从中推演出来泄漏电流(Ifor)。
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