[发明专利]形成场电子放射材料和包含所述材料的场电子放射体的方法无效
| 申请号： | 00809996.0 | 申请日： | 2000-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN1360731A | 公开（公告）日： | 2002-07-24 |
| 发明（设计）人： | R·A·塔克;A·博尔登;H·比肖普;C·胡德;W·李 | 申请（专利权）人： | 可印刷发射体有限公司 |
| 主分类号： | H01J1/30 | 分类号： | H01J1/30 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所 | 代理人： | 张政权 |
| 地址： | 英国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种场电子放射材料,其制作方法是对石墨粒子(11)施加二氧化硅前体;处理该二氧化硅前体,形成掺杂和/或有严重缺陷的无定形二氧化硅(12),并将石墨粒子(11)放在衬底(13)的导电表面(14)上,使它们至少部分涂布有无定形二氧化硅(12)。 | ||
| 搜索关键词： | 形成 电子 放射 材料 包含 方法 | ||
【主权项】：
1.一种形成场电子放射材料的方法，其特征在于包括步骤：a.对石墨粒子加二氧化硅前体；b.处理所述二氧化硅前体，形成经掺杂和/或有严重缺陷的无定形二氧化硅；和c.将所述石墨粒子置于衬底导电表面，使它们至少部分涂布所述无定形二氧化硅。
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