[发明专利]生产场致发射阴极的方法、场致发射阴极及光源无效

专利信息
申请号: 00810176.0 申请日: 2000-06-13
公开(公告)号: CN1361918A 公开(公告)日: 2002-07-31
发明(设计)人: 甘纳·弗斯伯格;卡尔-哈肯·安德森 申请(专利权)人: 光实验室股份公司
主分类号: H01J1/304 分类号: H01J1/304;H01J9/02
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 冯谱
地址: 瑞典*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种生产用于一个光源、且包括至少一个带有一个场致发射表面的场致发射本体的场致发射阴极的方法,其中该方法包括改性所述发射表面,以便提供在在每个所述表面中的至少一个电场发射不规则体。该方法的不同之外在于,把至少一个激光束引入以成形本体并且同时接触场致发射表面,及由此提供对于本体表面的改性处理。本发明也涉及一种如此生产的场致发射阴极和一种包括这样一个场致发射阴极的光源。
搜索关键词: 生产 发射 阴极 方法 光源
【主权项】:
1.一种生产用于一个光源、且包括至少一个带有一个场致发射表面的场致发射本体的场致发射阴极的方法,其中该方法包括改性所述发射表面,以便提供在在每个所述表面中的至少一个电场发射不规则体处,该方法的特征在于,至少一个激光束被引入以成形本体并且同时接触场致发射表面,及由此提供对于本体表面的改性处理。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于光实验室股份公司,未经光实验室股份公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/00810176.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top