[发明专利]铜源试剂组合物,及其制造和用于微电子设备结构的方法

摘要

液体供应CVD所用的铜前体,该CVD用于在衬底上形成含铜材料。所公开的铜前体对半导体设备结构中互连的金属化特别有用。

主权项

1.一种铜源试剂组合物，包含选自以下一组的至少一种铜前体：(a)具有下式的铜络合物(式I)其中，R’、R”相同或不同，并独立地选自由C1-C8非环烷基、芳基、氟芳基、C1-C8氟烷基，或C3-C6环烷基，和C3-C6环烷基及C3-C6氟环烷基组成的组；并且L是中性路易斯碱配体，其选自由(i)烯烃，(ii)炔烃，(iii)硅和(iv)含硫、氧和/或氮的有机配体组成的组；和(b)下式铜络合物：式(II)其中R1、R2、R3、R4和R5可相同或不同，并独立地选自由H、芳基、氟芳基、C1-C8非环烷基、C1-C8氟烷基或C3-C6环烷基组成的组，并且n为0、1、2或3。