[发明专利]一种用于控制等离子体发生器的系统无效
| 申请号： | 00810564.2 | 申请日： | 2000-07-20 |
| 公开（公告）号： | CN1150607C | 公开（公告）日： | 2004-05-19 |
| 发明（设计）人： | 约瑟夫·T·沃德云;韦恩·L·约翰逊;默里·D·瑟基斯 | 申请（专利权）人： | 东京电子株式会社 |
| 主分类号： | H01L21/66 | 分类号： | H01L21/66;H01S3/08;H05H1/46 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王永刚 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种用于测量等离子体密度(例如在1010到1012cm-3范围内)和用于控制等离子体发生器(240)的系统。如果要使用反馈控制充分地控制诸如沉积或刻蚀的等离子体辅助过程，测量等离子体密度是必要的。等离子体测量方法和系统产生一个控制电压，该电压进而控制等离子体发生器(240)维持等离子体密度处于预定值上。当谐振频率由于在开式谐振腔导入等离子体而发生变化时，该系统使用频率稳定系统将本地振荡器(100)的频率锁定到开式微波谐振腔(245)的频率。第二微波鉴频器的放大输出电压可用于控制等离子体发生器(240)。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 控制 等离子体 发生器 系统 | ||
【主权项】：
1.一种用于控制等离子体发生器的系统，该系统包括：放置于等离子体腔室中的开式谐振腔，用于以共振频率共振；振荡器，具有可变频率的输出；控制电路，用于测量共振频率和可变频率之间的差值，并且用于施加校正信号到振荡器上以改变可变频率从而基本上匹配共振频率，以便控制该等离子体发生器。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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