[发明专利]具有改进投射性的磨粒无效
| 申请号： | 00811302.5 | 申请日： | 2000-07-19 |
| 公开（公告）号： | CN1136286C | 公开（公告）日： | 2004-01-28 |
| 发明（设计）人： | J·孙 | 申请（专利权）人： | 圣戈本陶瓷及塑料股份有限公司 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所 | 代理人： | 白益华 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供具有在UP沉积过程中改进投射性的磨粒，它具有第一导电性涂层和包含含硅化合物的第二涂层。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 改进 投射 | ||
【主权项】：
1.一种具有改进投射性的磨粒，该磨粒选自熔凝氧化铝、陶瓷氧化铝、碳化硅和氧化铝/氧化锆中的任一种，其上具有含导电性碳材料的第一表面涂层和位于该第一表面涂层上的第二表面涂层，该第二表面涂层包含选自硅酸盐(酯)、氨基硅烷和它们的混合物的含硅化合物。
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