[发明专利]液体处理系统及其清洗设备无效
| 申请号： | 00811520.6 | 申请日： | 2000-08-11 |
| 公开（公告）号： | CN1157337C | 公开（公告）日： | 2004-07-14 |
| 发明（设计）人： | 冈·方;尤里·劳里辛;简·M·马尔斯哈尔克维尔德;道格拉斯·彭黑尔 | 申请（专利权）人： | 特洛伊人技术公司 |
| 主分类号： | C02F1/32 | 分类号： | C02F1/32;B08B9/02;A61L2/10 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 朱登河;顾红霞 |
| 地址： | 加拿大*** | 国省代码： | 加拿大;CA |
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| 摘要： | 一种用在包含射线源部件的液体处理系统中的清洗设备，该清洗设备包括：至少一个与射线源部件(150)的外部滑动啮合的清洗套筒(300)；一个清洗室(310)，它位于该至少一个的清洗套筒内，与射线源部件(150)的外部的一部分相接触，其中充满着清洗液，清洗室包括一个通向清洗套筒外边的开口(370)；一个位于开口中的压力均衡构件(355)，用来提供开口和清洗套筒的外部之间的密封，该压力均衡构件可以随着经此处的压力梯度而移动；以及沿射线源部件的外部调动该至少一个的清洗套筒的驱动装置。还描述了一种含有该清洗设备的液体处理系统。 | ||
| 搜索关键词： | 液体 处理 系统 及其 清洗 设备 | ||
【主权项】：
1.一种用在包含射线源部件的液体处理系统中的清洗设备，该清洗设备包括：至少一个与射线源部件的外部滑动啮合的清洗套筒；一个清洗室，它位于该至少一个的清洗套筒内，与射线源部件的外部的一部分相接触，其中充满着清洗液，清洗室包括一个通向清洗套筒外边的开口；一个位于开口中的压力均衡构件，用来提供开口和清洗套筒的外部之间的密封，该压力均衡构件可以随着经此处的压力梯度而移动；以及沿射线源部件的外部调动该至少一个的清洗套筒的驱动装置，其特征在于，清洗套筒进一步包括一个辅助室，该室的一个表面由压力均衡构件的至少一部分限定，辅助室有一个通向清洗套筒外部的开口。
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