[发明专利]介电质CMP浆液中CsOH的应用有效
| 申请号： | 00815146.6 | 申请日： | 2000-10-31 |
| 公开（公告）号： | CN1387556A | 公开（公告）日： | 2002-12-25 |
| 发明（设计）人： | 艾丽西亚·F·沃尔特斯;布赖恩·L·米勒;詹姆斯·A·德克森;保罗·M·菲尼 | 申请（专利权）人： | 卡伯特微电子公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 宋莉,贾静环 |
| 地址： | 美国伊*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 包含磨蚀剂和氢氧化铯的化学机械抛光组合物及利用含有氢氧化铯的抛光组合物抛光与集成电路结合的介电层的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 介电质 cmp 浆液 csoh 应用 | ||
【主权项】：
1.一种化学机械抛光组合物，其包含锻烧磨蚀剂及约0.01至约5.0重量百分比的至少一种Cs+碱性盐。
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