[发明专利]用于抛光衬垫的调节器和制造该调节器的方法有效

专利信息
申请号: 00815709.X 申请日: 2000-10-10
公开(公告)号: CN1391506A 公开(公告)日: 2003-01-15
发明(设计)人: 明汎英;刘寿男 申请(专利权)人: 杭纳科技股份有限公司
主分类号: B24B37/04 分类号: B24B37/04
代理公司: 隆天国际专利商标代理有限公司 代理人: 潘培坤,楼仙英
地址: 韩国大*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明公开了一种用于抛光衬垫的调节器和制造该调节器的方法。该调节器包含一基片,至少在其一侧形成有大量的一致高度的几何突起;和一切削部,其上具有的一致厚度的金刚石层,基本上形成在基片具有几何突起一侧的整个表面上。该几何突起具有一平的上表面,或该上表面可以包含大量由凹槽所形成的较小的几何突起。该基片是由陶瓷或粘接碳化物材料制成的,并具有一圆盘形、具有多个区域的盘形、杯形、分段形、或具有平的上下表面的圆环形的形状。该调节器可以进一步包含一体部,该体部牢固地设置在基片具有几何突起的相反一侧上,以使该切削部连接到调节设备上。该调节器的切削部是通过具有上面的形状和结构,与抛光衬垫表面以线或面接触的形式而实现的。覆盖在切削表面上的金刚石层增强了切削表面的结构完整性,以提高了其切削性能,并提供有耐磨和防腐蚀的特性,从而使调节器具有延长了的使用寿命。
搜索关键词: 用于 抛光 衬垫 调节器 制造 方法
【主权项】:
1.一种用于抛光衬垫的调节器,它包含:一基片,至少在其一侧形成有大量的一致高度的几何突起;和一金刚石层,具有一致厚度的金刚石层基本上形成在具有几何突起的基片一侧的整个表面上。
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