[发明专利]于EEPROM擦除期间可增进可靠度的减少定电场的方法无效
申请号: | 00817240.4 | 申请日: | 2000-12-05 |
公开(公告)号: | CN1411602A | 公开(公告)日: | 2003-04-16 |
发明(设计)人: | 克莱文德·李 | 申请(专利权)人: | 先进微装置公司 |
主分类号: | G11C16/14 | 分类号: | G11C16/14 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人: | 戈泊,程伟 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种于多重内存单元组成的内存装置擦除期间,减少峰值电场的方法。于擦除期间,本内存单元的电场Efield是由方程式Efield~ag(Vgate-Vth+Vtuv)+(as-1)Vsource所决定的,以及变化栅极电压Vgate施加到擦除的存储单元的栅极以致在擦除过程期间Vgate-Vth是固定的。 | ||
搜索关键词: | eeprom 擦除 期间 增进 可靠 减少 电场 方法 | ||
【主权项】:
1.一种用于擦除多个存储单元组成的内存装置中的存储单元的方法,每一存储单元具有源极和控制栅极,其中电场Efield是由方程式Efield~ag(Vgate-Vth+Vtuv)+(as-1)Vsource所决定,此方法包含:的,a)在欲擦除的存储单元上执行紫外线擦除以产生紫外线擦除门限电压,Vtuv;并且因此b)施加电压Vsource到欲擦除的存储单元的源极;以及c)施加变化电压Vgate到欲擦除存储单元的控制栅极,其中,于擦除过程中,Vgate-Vth是固定的;其中,在擦除过程中,该方法用来降低峰值电场。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于先进微装置公司,未经先进微装置公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/00817240.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。