[发明专利]自对准的混合工艺和元件无效
申请号: | 00818573.5 | 申请日: | 2000-12-13 |
公开(公告)号: | CN1425147A | 公开(公告)日: | 2003-06-18 |
发明(设计)人: | J·-M·G·艾利伯特 | 申请(专利权)人: | 康宁股分有限公司 |
主分类号: | G03F9/00 | 分类号: | G03F9/00;G03C5/00 |
代理公司: | 上海专利商标事务所 | 代理人: | 李家麟 |
地址: | 暂无信息 | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 形成混合光学元件的方法包括以下步骤,在平面光学元件的核心层上进行掩模和蚀刻图案以限定至少一个对准零件和一个光学元件以及其后上包该光学元件,这样形成了无源平台,它暴露了诸如波导一类光学元件的表面和对准零件,后者用于接收包括激光器之类有源器件的有源平台上所形成的镜象对准零件。混合元件包括其中形成有对准零件的无源平台和用于接收有源平台的波导,所述有源平台带有匹配的镜象对准零件和有源器件,后者当该平台进行匹配时对准于该波导。这样的制造方法和生成的光学元件提供了高效,自对准无源和有源器件的平台,它们大大地减小了混合光学电路的制造价格,也提高了它们的可靠性,降低了成本。 | ||
搜索关键词: | 对准 混合 工艺 元件 | ||
【主权项】:
1.一种制造混合光学元件的方法,其特征在于,包括以下步骤:提供第一基片;在第一基片上沉积核心层;对核心层进行掩模和蚀刻以限定光学元件和至少一个对准另件;蚀刻期间至少在一部分对准另件上保留掩模于适当的位置;上包光学元件来限定无源平台,上面带有一暴露的光学元件表面,并与对准另件有预定的固定关系;提供有源光学元件;对有源元件进行掩模和蚀刻以形成对准另件,它是无源平台对准另件的镜象;以及把所述有源平台和所述无源平台相耦合,这样使对准另件各自相互接合并将所述有源光学器件置于同无源平台上光学元件的暴露表面形成对准运行的关系。
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