[发明专利]磁头的抛光设备和方法无效

专利信息
申请号: 01101512.8 申请日: 2001-01-15
公开(公告)号: CN1366296A 公开(公告)日: 2002-08-28
发明(设计)人: 阿部彻男;小川昭雄;长谷部次博;进藤宏史;袋井修 申请(专利权)人: TDK株式会社
主分类号: G11B5/33 分类号: G11B5/33;G11B5/60;B24B19/26
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 黄力行
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 对装有多个磁头转换器的具有冠状形状陶瓷棒进行抛光加工,本发明将陶瓷棒通过主要由橡胶组成的弹性元件压向主要是凹面的抛光平面,在相对抛光平面的表面设有多个垂直于纵向的凹槽,然后,测量设置在磁头转换器的元件的磁阻,根据测量结果进行闭环控制,调节冠状抛光成型操作的压力,得到了可以精确控制的令人满意的形状。
搜索关键词: 磁头 抛光 设备 方法
【主权项】:
1.磁头抛光装置,其可用来对装有多个磁头的抛光工件进行抛光,其包括:转动抛光台,其具有构成一部分预定曲率半径球面的抛光平面;抛光头固定机架,可相对所述抛光平面移动;和所述抛光头固定机架支撑的抛光头;其中,所述抛光头包括通过弹性元件夹持所述抛光工件的夹具;所述夹具可以固定的后面板;升降机构其能够与所述后面板一起相对所述抛光平面上升和下降,并以所述后面板可绕支撑点转动的方式支撑所述后面板和在平行于所述上升和下降方向的平面支撑所述后面板;将所述后面板压向所述抛光平面的多个校正推杆机构;测量位于所述抛光工件的磁头性能的测量机构;和根据测得值控制所述多个校正推杆机构压力的控制机构。
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