[发明专利]用于化学机械平坦化后的含水清洁液组合物无效
| 申请号： | 01104317.2 | 申请日： | 2001-02-23 |
| 公开（公告）号： | CN1164724C | 公开（公告）日： | 2004-09-01 |
| 发明（设计）人： | 陈建清 | 申请（专利权）人： | 长兴化学工业股份有限公司 |
| 主分类号： | C11D9/30 | 分类号： | C11D9/30;H01L21/302 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 过晓东 |
| 地址： | 台湾省*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明是关于一种用于化学机械平坦化后的含水清洁液组合物，其pH值介于2～6之间，包括1-10重量％的有机酸、0.01-0.5重量％的腐蚀抑制剂、0.01-2重量％醇胺、0.01-2重量％的多醇类化合物及水。本发明的含水清洁液组合物可有效地去除残留于经化学机械平坦化后的铜工艺硅晶片表面上的污染物，如研磨粒、金属络合物或有机分子，且不致使金属导线产生锈蚀。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 化学 机械 平坦 含水 清洁 组合 | ||
【主权项】：
1、一种用于化学机械平坦化后的含水清洁液组合物，其pH介于2～6，包含：(a)1-10重量％选自草酸或柠檬酸的有机酸；(b)0.01-0.5重量％的腐蚀抑制剂；(c)0.01-2重量％选自乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺及丙醇胺的醇胺；(d)0.01-2重量％选自乙二醇、1，3-丙二醇及二甘醇的多醇类化合物；及(e)水。
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