[发明专利]半导体和钛酸锶p-n结无效

专利信息
申请号: 01104459.4 申请日: 2001-02-27
公开(公告)号: CN1165084C 公开(公告)日: 2004-09-01
发明(设计)人: 吕惠宾;颜雷;戴守愚;陈正豪;周岳亮;陈凡;谈国太;杨国桢 申请(专利权)人: 中国科学院物理研究所
主分类号: H01L29/12 分类号: H01L29/12;H01L21/36;C04B35/46
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 1000*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及电子学领域,特别是涉及一系列新型p-n结。本发明提供的半导体和钛酸锶p-n结,其特征在于:n型和p型的半导体为掺杂的硅或锗或砷化镓;n型钛酸锶SrAxTi1-xO3或Sr1-xLaxTiO3,其中A是Nb或Sb或Ta;p型钛酸锶SrBxTi1-xO3,其中B是In或Ga或Mn;X=0.005~0.5;将该p型或n型钛酸锶与该n型或p型半导体进行叠层生长,制备半导体与钛酸锶p-n结、p-p结、n-n结、n-p-n结、p-n-p结。本发明的制作工艺简单,稳定性好,可广泛应用于电子器件及探测器。
搜索关键词: 半导体 钛酸锶
【主权项】:
1.半导体和钛酸锶p-n结,其特征在于:n型和p型的半导体为掺杂的硅或锗或砷化镓;n型钛酸锶SrAxTi1-xO3或Sr1-xLaxTiO3,其中A是Nb或Sb或Ta;p型钛酸锶SrBxTi1-xO3,其中B是In或Ga或Mn;X=0.005~0.5;将该p型或n型钛酸锶与该n型或p型半导体进行叠层生长,制备半导体与钛酸锶p-n结、p-p结、n-n结、n-p-n结、p-n-p结。
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