[发明专利]曝光方法及其曝光装置、以及器件制造方法无效

专利信息
申请号: 01104530.2 申请日: 2001-02-15
公开(公告)号: CN1309332A 公开(公告)日: 2001-08-22
发明(设计)人: 西健尔 申请(专利权)人: 株式会社尼康
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;H01L21/027
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 季向冈
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 利用曝光光束经由掩模来曝光基板的曝光装置具有移动基板的可动载置台;收纳可动载台的载置台室;在载置台室内搬运基板的搬运系统;在载置台室内相对于可动载置台对准基板位置的第1对准系统。用第1对准系统可以对准由搬运系统交接到载置台室内的被曝光体的位置。可以以组件方式将载置台室及可动载置台装配到曝光装置的框架上。曝光装置具有将设置在可动载置台上的基板对准到曝光位置上的第2对准系统。
搜索关键词: 曝光 方法 及其 装置 以及 器件 制造
【主权项】:
1.一种曝光方法,是使用备有配置了可动载置台并具有气密性的载置台室的曝光装置,利用曝光光束经由第1物体及第2物体的一方曝光另一方的曝光方法,其特征在于包含以下过程:将第2物体搬入载置台室内;在载置台室内相对于可动载置台进行第2物体的位置对准;将经过位置对准的第2物体设置在可动载置台上;移动可动载置台并相对于曝光位置对准第2物体的位置;利用曝光光束经由第1物体以及第2物体之一方曝光另一方。
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