[发明专利]制作超微细图形的光学装置无效
| 申请号： | 01108431.6 | 申请日： | 2001-05-16 |
| 公开（公告）号： | CN1385735A | 公开（公告）日： | 2002-12-18 |
| 发明（设计）人： | 罗先刚;姚汉民;陈旭南;李展;陈献忠 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | G02B27/22 | 分类号： | G02B27/22 |
| 代理公司： | 成都信博专利代理有限责任公司 | 代理人： | 张一红,王庆理 |
| 地址： | 61020*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明是一种利用光力制作超微细图形光学装置,由激光器、反射镜、声光器件、透镜组等组成的光学控制系统、原子束发生器以及真空工作室等构成。它利用光学控制系统形成的激光场对原子的作用力,使原子束准直和聚焦,直接在基底上成批量制作出点线图形,具有不需要掩模、光刻设备,避免了光刻显影刻蚀等工艺流程的特点,可广泛应用于包含纳米图形的超微细三维图形、纳米材料、纳米器件和量子器件等研究开发。 | ||
| 搜索关键词： | 制作 微细 图形 光学 装置 | ||
【主权项】：
1、一种制作超微细图形的光学装置，由光学控制系统、真空工作室(1)和原子发生器(2)等构成，其特征在于：光学控制系统包括激光器、反射镜、声光器件和透镜组等光学控制元件，激光器(4)发出的激光经反射镜(26)和第一声光器件(25)分成二束，分出的第一激光束(5)经第一反射镜(6)、第二声光器件(7)、第一透镜组(8)和第一偏振器(9)，进入真空工作室(1)，并经第一1/4波片(11)和第一反射镜(12)反射，在真空工作室(1)内形成原子束准直光场(14)；分出的第二激光束(24)经第二透镜组(23)、第二偏振器(22)和第二1/4波片(21)，进入真空工作室(1)，经第二反射镜(16)反射，在基片(19)上形成原子束聚焦光场(18)；真空工作室(1)中的原子发生器(2)发出的原子束(3)经过原子束准直光场(14)和原子束聚焦光场(18)，受其光力的作用和控制而产生超微细图形或三维图形。
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