[发明专利]一种增加碳纳米管比表面积的后处理方法无效

专利信息
申请号: 01108645.9 申请日: 2001-07-18
公开(公告)号: CN1397488A 公开(公告)日: 2003-02-19
发明(设计)人: 于作龙;江奇;瞿美臻 申请(专利权)人: 中国科学院成都有机化学研究所
主分类号: C01B31/02 分类号: C01B31/02;C04B41/91;C09K13/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 610041 *** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开了一种增加碳纳米管比表面积的后处理方法,即通过刻蚀剂KOH、NaOH、LiOH、Ca(OH)2、Na2CO3、K2CO3、H3PO4、K3PO4、ZnCl2等和刻蚀气体CO2、水蒸气等高温处理碳纳米管,达到使碳纳米管比表面积增大的目的,成为活化碳纳米管。这种活化碳纳米管的比表面积可根据需要在100-4000m2/g之间范围内变化。
搜索关键词: 一种 增加 纳米 表面积 处理 方法
【主权项】:
1.一种增加碳纳米管比表面积的后处理方法,其特征在于通过局部刻蚀的方法,使碳纳米管管壁上产生纳米孔(2-100nm),增加比表面积。
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