[发明专利]磁流体光学测量磁场或电流的传感技术无效
| 申请号： | 01108678.5 | 申请日： | 2001-07-27 |
| 公开（公告）号： | CN1348106A | 公开（公告）日： | 2002-05-08 |
| 发明（设计）人： | 袁绥华 | 申请（专利权）人： | 西南师范大学 |
| 主分类号： | G01R33/032 | 分类号： | G01R33/032;G01R15/24 |
| 代理公司： | 重庆市专利事务所 | 代理人： | 涂强 |
| 地址： | 400715*** | 国省代码： | 重庆;85 |
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| 摘要： | 一种磁流体光学测量磁场或电流传的感技术,其主要包括如下的几个环节(1)将磁流体薄片置于被测的磁场或被测电流所产生的磁场中;(2)激光器射出的激光束经凸透镜聚焦于磁流体薄片上而产生衍射;(3)测出衍射面上某两个固定点光强的大小,将该两点的光强值与预先校正好的值对比,就可以测知磁场的大小,根据磁场的大小,又可推算出产生磁场的电流大小。本发明的设备简单、造价低廉,避免了受如应力、温度等环境因素的干扰,测量精度和分辨率与法拉第效应法相当。 | ||
| 搜索关键词： | 流体 光学 测量 磁场 电流 传感 技术 | ||
【主权项】：
1.一种磁流体光学测量磁场或电流的传感技术，其主要包括如下的几个环节：(1)将磁流体薄片置于被测的磁场或被测电流所产生的磁场中；(2)激光器射出的激光束经凸透镜聚焦于磁流体薄片上而产生衍射，衍射的状态与磁场强度相关；(3)测出衍射面上某两个固定点光强大小，将该两点的光强值与预先校正好的值对比，就可以测知磁场的大小，根据磁场的大小，又可推算出产生磁场的电流大小。
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