[发明专利]双位沟槽式栅极非挥发性快闪存储单元及其操作方法无效
申请号: | 01109116.9 | 申请日: | 2001-03-06 |
公开(公告)号: | CN1150625C | 公开(公告)日: | 2004-05-19 |
发明(设计)人: | 徐清祥;李昆鸿;杨青松 | 申请(专利权)人: | 力旺电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/115 | 分类号: | H01L27/115;G11C16/00 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 刘芳 |
地址: | 台湾省*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 一种双位沟槽式栅极非挥发性快闪存储单元及其操作方法,快闪存储器在一半导体基体的表面形成作为一源极的第一离子掺杂区;在其上间隔设有沟槽及第二离子掺杂区,沟槽包含一栅极及包围该栅极的绝缘介电层,沟槽上覆盖一绝缘层;有一漏极叠设在该第二掺杂区上,一导电层连接各漏极,由绝缘层分隔该导电层与沟槽;对应其有相关的编程、擦除及读取的方法,解决了现有的在读取左右位时必须反相而导致周边线路复杂及面积增加的缺点。 | ||
搜索关键词: | 沟槽 栅极 挥发性 闪存 单元 及其 操作方法 | ||
【主权项】:
1、一种双位沟槽式栅极非挥发性快闪存储单元,其特征在于:其包括:一半导体基体;一在半导体基体的表面、作为一源极的第一离子掺杂区;在第一离子掺杂区上间隔设置有沟槽及第二离子掺杂区,该沟槽包含一栅极以及包围该栅极的绝缘介电层;一叠设在第二离子掺杂区上的漏极;一覆盖在沟槽上方的绝缘层;一位于漏极上并连接各漏极的、且由绝缘层将其与沟槽分隔的导电层;所述的绝缘介电层包含有氧化层、捕捉层及氧化层;所述的绝缘介电层为接受并留住被射入其电洞的电荷的储存区域。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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