[发明专利]提高金属电极反射率的方法无效
| 申请号： | 01111187.9 | 申请日： | 2001-04-09 |
| 公开（公告）号： | CN1149687C | 公开（公告）日： | 2004-05-12 |
| 发明（设计）人： | 初国强;刘星元;刘云;王立军 | 申请（专利权）人： | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 主分类号： | H01L33/00 | 分类号： | H01L33/00;H05B33/10;H05B33/24 |
| 代理公司： | 长春科宇专利代理有限责任公司 | 代理人： | 李恩庆 |
| 地址： | 130022吉*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 本发明属于光电子技术是一种提高金属电极反射率的方法。本发明利用光学反射膜原理，制备具有低功函数，高反射率的金属电极。具体作法是，在透明基板上镀金属薄膜，再镀上低折射率材料膜；然后镀高、低折射率材料组合；最后镀高折射率材料或金属。本发明在保证电极的电子注入的情况下，可以有效地提高电极的反射率，使其达到95％以上。 | ||
| 搜索关键词： | 提高 金属电极 反射率 方法 | ||
【主权项】：
1、一种提高金属电极反射率的方法，利用光学反射膜的原理，镀制具有低功函数，高反射率的金属电极，其特征是在透明基板上镀具有高折射率的金属透明导电薄膜，在该薄膜上镀具有高反射的低折射率材料膜，然后镀高、低折射率材料组合，最后镀高折射率材料或具有高折射率的金属，上述过程可表示成(M/L)(H/L)(H/L)……(H/L)D或(M/L)(H/L)nD其中n为正整数，代表高低折射率材料组合组数，(M/L)中的M为具有高折射率的金属透明导电膜，L为镀在M上的低折射率材料；(H/L)为高、低折射率材料组合，H为高折射率材料，L为低折射率材料，D为高折射率材料或具有高折射率的金属；具有高折射率的金属透明导电膜M，光学厚度是准1/4波长，高折射率材料H、低折射率材料L的光学厚度是1/4波长，D为具有高折射率的金属时，厚度在50nm以上。
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